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单片,闭环温度和功率控制 |
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灯管预加热功能 |
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快速升温与降温控制 |
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工艺重复性高 |
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SLIP RING可防止晶片结构在高温状态下边缘(大于1150℃) 产生滑移、SLIPFREE 特殊晶片的自动载片系统和精确的温度控制 |
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10组加热灯可分别控制,提高了温场均匀性 |
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可调整的机械手传片速度可最大限度优化产能 |
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N2阻挡(N2 curtain) 可大大提高硅化物合金工艺性能 |
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高温计或ez-DTC温度测量提供更高的工艺可靠性和重复性 |
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离子注入后快速退火 |
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欧姆接触快速合金 |
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硅化物合金退火 |
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氧化物生长 |
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其它快速热处理工艺 |
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一般管式高温炉只能一个工艺条件(即一个温度条件);工艺周期长,使用不够灵活;必须24小时加电恒温,能耗较高,不适用于生产。 |
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AG8108快速退火炉,可以设定多工艺条件(即多种温度条件);工艺时间短,使用非常灵活;能耗低;同一台设备既可作生产,也可作科研,且任何科研工艺条件不会对生产工艺造成影响。 |
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